第89回新制作展に芸術文化学群ビジュアル・アーツ専修の学生4人が入選

第89回新制作展（9月16日〜28日、国立新美術館）において、芸術文化学群ビジュアル・アーツ専修4年の大山彩恵さん、二階堂杏里さん、ペレス マタブエナ ハニアさん、前地李華さんの4人の作品が入選しました。

 

新制作展は、全国から優秀な作品が集う国内有数の規模を誇る公募展です。佐善圭准教授が担当する「卒業研究I（ビジュアル・アーツ）」では、4年間の学びの集大成として同展へ挑戦。35cm立方の空間で彫刻表現を展開する彫刻部「35³—サンゴーキューブ—」部門および一般公募部門にて、4点の作品が入選しました。

 

入選した4人は、大学入学前はそれぞれの進路や表現方法を模索している段階でした。しかし、多種多様な創作活動にチャレンジできる芸術文化学群の環境のなかでさまざまな分野を体験し、大学から立体造形を専門として学び始め、表現を磨いてきました。

 

今回が初の公募展応募となった4人は、「さまざまな分野にチャレンジできる環境があったからこそ、新しい自分を発見できた」と口を揃えます。全国から集まった優れた作品やクリエイターたちから大きな刺激を受けた彼女たちは、今後も積極的に創作活動へ挑戦していく意欲を見せています。

 
【佐善准教授コメント】
国立新美術館で開催される「新制作展」は、今年で89回目を迎えた歴史ある公募展です。数ある公募展の中でも入選・入賞のハードルが非常に高く「厳選」された作品が一堂に会する国内屈指のハイレベルな展覧会として知られています。この難関において、今年度は4人の学生が初入選を果たしました。立体造形を扱う佐善ゼミの学生たちは、3年次のゼミ研修で初めてプロの彫刻作品を鑑賞。その刺激を胸に、4年次の春学期には、この展覧会への出品に向けて無我夢中で作品作りに励んできました。百戦錬磨の熟練者たちが競い合う中での入選は、極めて価値ある素晴らしい功績です。さらに今回は、卒業、就職しながらもアートの道を諦めずに、勤務の休みを使って制作に挑み続けたOGの再入選という、誇らしいニュースも届きました。こうした先輩や同期の活躍がビジュアル・アーツ専修全体への良い刺激となり、表現への情熱がさらに広がっていくことを楽しみにしています。